12月21日、第5回 日本大学N.研究プロジェクトが開催されました。
当研究室では
M2の渡部が「パルスレーザー堆積法による[REMO3/ABO3]人工超格子(RE=Bi, La, M=Fe, Fe0.8Mn0.2 A=La, Ca, B=Fe, Mn)の作製と電気的磁気的性質
M1の津田が「単層カーボンナノチューブの面内配向制御及び電気特性評価
中村が「LiNbO3基板上におけるCr2O3薄膜の結晶成長
B4の稲葉が「パルスレーザ堆積法におけるABO3(A=Ca,La B=Fe,Mn)および REMO3(RE=La,Bi M=Fe,Fe1-xMnx)薄膜の作製と評価
林が「サファイアおよびYAlO3基板上でのCr2O3薄膜の結晶成長」
吉田が「自由電子レーザー照射における単層カーボンナノチューブのカイラリティ制御解析」
でポスター発表を行いました。