2013年2月9日、「日本大学理工学部 第22回先端材料科学若手フォーラム」が開催されました。
当研究室からは、
M1粳田が「電極間に架橋したC60ウィスカーの電気特性及びポリマー化」
黒田が「強磁性体CO/Pt/c-、r-Cr2O3積層膜による結晶構造解析と磁気特性」
相良が「面内配向単層カーボンナノチューブの成長量制御」
佐藤が「化学気相成長法によるCu箔上へのグラフェン成長」
渡部が「Pulsed Laser Deposition法による[BiMO3/ABOx](M=Fe, Fe0.8Mn0.2 A=La, Ca B=Fe, Mn)人工超格子の作製と評価」
石井が「グラファイト及びNi触媒ダブルターゲットを用いたレーザーアブレーション法によるカーボンナノチューブの合成」
M0及川が「パルスレーザー堆積法を用いたREBO3(RE=Ca,Bi,La B=Fe,Mn,Fe0.8Mn0.2)酸化物薄膜の作製と評価」
津田が「高品質単層カーボンナノチューブの作製と電気伝導特性」
中村が「LiNb3基板上におけるCr2O3薄膜の結晶成長」
という題目で発表しました。