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当研究室の平成28年度メンバーです。
  学年 氏名 研究内容
 教授    山本 寛  室温超伝導、カーボン系機能材料の創成
准教授   岩田 展幸 新機能性材料の創成とデバイス応用   
助手   永田 知子 電子型強誘電体薄膜作製及びデバイス応用
Post-docs   Huaping Song 酸化物積層膜の作製及び角度分解型スピン偏曲型光電子分光法による電子状態解明 
大学院 D3 渡部 雄太 パルスレーザー堆積法によるREFeO3/AFeO3人工超格子(RE=La,Bi,A=Ca,Sr)の作製と電気的磁気的特性
大学院  M2 隅田 貴士 サファイア基板上での強磁性/r面、c面配向Cr2O3積層膜の作製、室温での交換バイアス磁場発現および磁気特性の電界制御
張 g  CaMnO3 薄膜及びペロブスカイト系人工超格子の電気的磁気的特性および電子・スピン状態の解明
  王 春 ペチーニ法によって作製した超高密度ターゲットによるBi系ペロブスカイト酸化物薄膜および人工超格子の作製条件最適化、精密結晶構造解析および電気的磁気的特性
川口 大貴 ホットウォール型、コールドウォール型CVD装置を用いた高密度面内配向単層カーボンナノチューブの作製と自由電子レーザー照射によるカイラリティ制御、制御メカニズムの解明および電気的特性評価
橋本 浩佑   YAlO3基板上でのr面配向Cr2O3薄膜作製と精密結晶構造解析、ならびに室温での交換バイアス磁場発現
 星野 崚 金属原子層をインターカレーションした2層グラフェンの作製と構造解析及び電気特性
M1  大橋 祥平 [CaFeOx/LaFeO3]人工超格子の電気的磁気的特性、電界による磁気特性制御および電子・スピン状態の解明
 福井 慎二郎 原子レベルで平坦なr面配向Cr2O3薄膜の作製
  松山 裕貴  SrTiO3(110)上に成膜したBiFeO3、BiFe1-xMnx単相膜、[CaFeOx/BiFeO3]、[CaFeOx/BiFe1-xMnxO3]人工超格子の作製と結晶構造解析および電気的磁気的特性
学部 B4  荒木 伊久磨  
 赤沢 孝徳  界面エンジニアリングによる特異な電気的磁気的特性を持つ新素材開発および電子・スピン状態の解明
 〃  〃 石川 翔梧   ホットウォール型CVD装置を用いた自由電子レーザー照射による高密度面内配向単層カーボンナノチューブのカイラリティ制御
 〃  〃 石川 智大   
 〃  〃 倉金 夏己   金属原子層をインターカレーションした2層グラフェンの作製条件の最適化
 〃  〃 小山 知之  [CaFeOx/LaFeO3]人工超格子の精密な堆積手法開発、精密結晶構造解析および電気的磁気的特性
 〃  〃 櫻井 亮太   金属原子層をインターカレーションした2層グラフェンの作製における作製手順最適化
 〃  〃 平戸 剛志   サファイア基板上での強磁性/r面、c面配向Cr2O3積層膜の作製、室温での交換バイアス磁場発現および異常ホール効果測定
 〃  〃 保延 賢人   ホットウォール型、コールドウォール型CVD装置を用いた自由電子レーザー照射による単層カーボンナノチューブのカイラリティ制御
 〃  〃 村田 真也   DFT計算による酸化物人工超格子の電子・スピン状態の解明および電界印加による磁気特性の特性変化計算
 〃  〃 柳原 康宏   サファイア基板上でのr面配向Fe2O3薄膜の作製と評価
〃  山岸 多門  大面積単層グラフェン作製条件の最適化